据TechNews 科技新报报导，英特尔近期将向荷兰ASML采购的High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）装备数目由一台增长至两台，凸显其对于14A制程的高度器重。

跟着半导体系体例程向更进步前辈节点迈进，传统EUV光刻技能逐渐靠近物理极限，High-NA EUV被视为打破瓶颈的要害装备。 ASML的High-NA EUV装备产能有限，每一年约出产五至六台，且单台价格约3.7至3.8亿美元（约合26至27亿元人平易近币），仅少数财力雄厚的晶片厂如台积电、三星、SK海力士及英特尔可以或许负担。

英特尔踊跃扩展投资，部门患上益在近期外部注资增援。例如，英特尔在2025年得到辉达注入50亿美元资金，以和软银投资20亿美元，这些资金有用加强了英特尔的现金流及本钱支出能力，使其能争先包下ASML High-NA EUV早期产能。

英特尔的战略重点放于14A制程（1.4奈米节点）上，规划使用High-NA EUV技能来晋升制程精度与良率，吸引更多代工客户。然而，公司高层已经明确暗示，若14A制程未能乐成获取市场承认，英特尔将被迫退出高端制程节点竞争，这将对于其一站式代工办事（IFS, Intel Foundry Services）营业造成庞大打击。

今朝虽已经增购第二台High-NA EUV装备，但该装备可否完全冲破制程瓶颈，仍存于不确定因素。包括良率治理、设计东西成熟度和完备供给链协同能力，都将决议英特尔是否能乐成翻身。英特尔高阶工程师Steve Carson吐露，他们已经经由过程首批两台High-NA EUV装备每一季度出产约3万片晶圆，此中硅晶圆可制造数千颗晶片，显示装备不变性已经有较着晋升。