8 月 1 日，璞璘科技乐成交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻体系 PL-SR 系列。

该装备霸占了多项要害技能难题，可实现线宽＜10nm 的纳米压印光刻工艺。其高精度喷墨打印式涂胶方案及瞄准功效，可满意繁杂布局的拼接需求，最小可实现 20妹妹x20妹妹 压印模板的匀称拼接，终极告竣 300妹妹 晶圆级超年夜面积模板的建造。今朝，该装备已经于贮存芯片、硅基微显、硅光和进步前辈封装等范畴完成研发验证，揭示出广漠的运用远景。

璞璘科技建立在2017年，谋划规模包括电子专用质料研发、电子专用装备制造与发卖、半导体器件专用装备制造与发卖等，是国度高新技能企业。产物和办事涵盖半导体系体例造、消费电子、车载电子、光电显示、生物医学、新能源制造等浩繁范畴，可为用户提供从工艺开发到装备和耗材量产的纳米压印全闭环解决方案，产物已经远销美国、加拿年夜等国度。